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垂直型III-V族超晶格材料、具有超晶格分布的InGaAsSb四元合金及制备方法

摘要

本发明提供了一种垂直型III‑V族超晶格材料、具有超晶格分布的InGaAsSb四元合金及制备方法,涉及半导体材料技术领域,本发明的垂直型III‑V族超晶格材料包括:具有倾角且呈台阶状的衬底,以及,位于衬底上且垂直衬底的超晶格半导体结构;超晶格半导体结构包括垂直衬底分布且交替叠置的第一材料竖层和第二材料竖层,衬底的每个台阶上分布有一个周期的第一材料竖层和第二材料竖层,第一材料竖层和所述第二材料竖层形成超晶格结构;第一材料竖层包括重复层叠生长的第一材料单分子层;第二材料竖层包括重复层叠生长的第二材料单分子层;第一材料和第二材料为不同的III‑V族化合物。这种新型超晶格结构具有纵向的载流子传输优势。

著录项

  • 公开/公告号CN111934200A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-11-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 湖南科莱特光电有限公司;

    申请/专利号CN202010846114.3

  • 发明设计人 杜鹏;

    申请日2020-08-20

  • 分类号H01S5/34(20060101);H01S5/343(20060101);H01L31/0304(20060101);H01L31/0352(20060101);H01L31/18(20060101);B82Y30/00(20110101);B82Y40/00(20110101);

  • 代理机构11463 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人张金铭

  • 地址 410000 湖南省长沙市雨花区振华路579号康庭园一期18号栋北侧一层、二层

  • 入库时间 2023-06-19 08:53:32

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