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DRAM氧化物电极、DRAM及其应用

摘要

一种DRAM氧化物电极、DRAM及其应用,该氧化物电极采用的材料包括RuOx、IrOx、PdOx、PtOx、AgOx、AuOx、Ga2O3中的任一种或多种组合。本发明针提出新的电极材料,包括高功函数的金属氧化物电极RuOx、IrOx、PdOx、PtOx、AgOx和AuOx,以及金属氧化物半导体Ga2O3;本发明氧化物电极与氧化物介电材料结合界面更好,可以减少缺陷和抑制低介电层的形成,进一步降低漏电和提高电容密度。

著录项

  • 公开/公告号CN111883517A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-11-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学技术大学;

    申请/专利号CN202010545328.7

  • 申请日2020-06-15

  • 分类号H01L23/64(20060101);H01L27/108(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人刘歌

  • 地址 230026 安徽省合肥市包河区金寨路96号

  • 入库时间 2023-06-19 08:47:24

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