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具有Si覆膜的纯铜粉及其制造方法以及使用该纯铜粉得到的增材制造产品

摘要

一种纯铜粉,其为形成有Si覆膜的纯铜粉,其特征在于,Si附着量为5重量ppm以上且200重量ppm以下,C附着量为15重量ppm以上,并且重量比率C/Si为3以下。本发明的课题在于提供一种形成有Si覆膜的纯铜粉及其制造方法以及使用该纯铜粉得到的增材制造产品,所述纯铜粉在利用电子束(EB)方式的增材制造中能够抑制由纯铜粉的预热引起的部分烧结,并且在成型时能够抑制由碳(C)引起的成型时的真空度的降低。

著录项

  • 公开/公告号CN111836692A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 捷客斯金属株式会社;

    申请/专利号CN201980017991.5

  • 发明设计人 渡边裕文;山本浩由;涩谷义孝;

    申请日2019-12-26

  • 分类号B22F1/00(20060101);B33Y70/10(20200101);B33Y80/00(20150101);B22F1/02(20060101);B22F3/105(20060101);B22F3/16(20060101);B33Y10/00(20150101);

  • 代理机构11219 中原信达知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人胡嵩麟;王海川

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2023-06-19 08:39:31

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-10-25

    授权

    发明专利权授予

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