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基于黑硅PN结的半导体光电极光解水反应装置及制备方法

摘要

一种基于黑硅PN结的半导体光电极光解水反应装置及制备方法,属于半导体光电极制备方法及光解水反应装置。(1)在将普通的P型单晶或多晶硅片表面微纳米化形成黑硅后,经过低温低浓度源扩散工艺,将所得的黑硅片置于扩散炉中750‑800℃预热并通入流量为0.1‑0.2L/min(升每分钟)的O

著录项

  • 公开/公告号CN108004564A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-05-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国矿业大学;

    申请/专利号CN201711222130.X

  • 发明设计人 强颖怀;贾晨晨;顾修全;赵宇龙;

    申请日2017-11-29

  • 分类号

  • 代理机构南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人杨晓玲

  • 地址 221116 江苏省徐州市铜山区大学路中国矿业大学科研院

  • 入库时间 2023-06-19 05:13:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-29

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C25B11/04 申请公布日:20180508 申请日:20171129

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2018-06-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):C25B11/04 申请日:20171129

    实质审查的生效

  • 2018-05-08

    公开

    公开

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