公开/公告号CN107567650A
专利类型发明专利
公开/公告日2018-01-09
原文格式PDF
申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;
申请/专利号CN201680025639.2
申请日2016-04-01
分类号H01L21/027(20060101);H01L21/3105(20060101);H01L21/311(20060101);G03F7/20(20060101);
代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;
代理人唐京桥;杜诚
地址 日本东京都
入库时间 2023-06-19 04:15:03
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-04-20
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/027 申请日:20160401
实质审查的生效
2018-01-09
公开
公开
机译: 使用双频电容耦合等离子体(CCP)的EUV抗蚀剂进行沟槽和孔构图
机译: 使用双频电容耦合等离子体(CCP)的EUV抗蚀剂进行沟槽和孔构图
机译: 使用双频电容耦合等离子体(CCP)的EUV电阻进行沟槽和孔构图