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一种用于化合物半导体薄膜及太阳电池的脉冲电沉积制备高质量铟薄膜的方法

摘要

一种用于化合物半导体薄膜及太阳电池的脉冲电沉积制备高质量铟薄膜的方法。现有电沉积方法制备的In薄膜表面呈“岛状”形貌,影响薄膜成分和厚度均匀性,对制备高质量半导体薄膜产生不利影响。本发明提供的脉冲电沉积方法在室温下InCl

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-08

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L31/0224 申请公布日:20171222 申请日:20170807

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2018-01-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/0224 申请日:20170807

    实质审查的生效

  • 2017-12-22

    公开

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