首页> 中国专利> 直接还原用原料、直接还原用原料的制造方法和还原铁的制造方法

直接还原用原料、直接还原用原料的制造方法和还原铁的制造方法

摘要

一种直接还原用原料,在竖炉中被还原,其具备原料、和将所述原料的周围被覆且具有气孔率为20体积%以上的多孔结构的被覆层。

著录项

  • 公开/公告号CN105492633A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-04-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 新日铁住金株式会社;

    申请/专利号CN201480041537.0

  • 发明设计人 水谷守利;西村恒久;

    申请日2014-07-25

  • 分类号C21B13/02;C22B1/16;C22B1/20;

  • 代理机构北京市中咨律师事务所;

  • 代理人刘航

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-12-18 15:20:38

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-06-07

    著录事项变更 IPC(主分类):C21B13/02 变更前: 变更后: 申请日:20140725

    著录事项变更

  • 2016-05-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):C21B13/02 申请日:20140725

    实质审查的生效

  • 2016-04-13

    公开

    公开

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