公开/公告号CN105233908A
专利类型发明专利
公开/公告日2016-01-13
原文格式PDF
申请/专利权人 黑龙江牟家机械制造有限公司;
申请/专利号CN201510701428.3
申请日2015-10-27
分类号B02B3/10;B02B7/00;
代理机构哈尔滨东方专利事务所;
代理人陈晓光
地址 166400 黑龙江省大庆市肇州县丰乐镇
入库时间 2023-12-18 13:18:56
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-05-21
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):B02B3/10 申请公布日:20160113 申请日:20151027
发明专利申请公布后的视为撤回
2016-01-13
公开
公开
机译: 在(化学机械抛光)组合物存在下含有杂环CMP的N-化合物一种制造半导体器件的方法,包括对III-V材料(CMP)进行化学机械抛光
机译: 用于制造半导体器件的方法,该方法包括在cmp组合物存在下对iii-v材料进行化学机械抛光(cmp),该cmp组合物包含含有n杂环的化合物
机译: 杂凝物,以及抛光和表面处理的组合物和方法