BOA阵列基板的制作方法及BOA阵列基板

摘要

本发明提供一种BOA阵列基板的制作方法，其包括制作阵列基板，在阵列基板的非显示区域设置金属层；在阵列基板的显示区域涂布黑色矩阵，并对黑色矩阵进行图形化处理；以及在阵列基板上设置彩色光阻。本发明还提供一种BOA阵列基板。本发明的BOA阵列基板的制作方法及BOA阵列基板可提高BOA阵列基板的制作质量，进而提高液晶显示面板的画面显示品质。

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示领域，特别是涉及一种BOA阵列基板 的制作方法及BOA阵列基板。

背景技术

彩膜阵列集成技术(BOA，Black Matrix ON Array)，能减 少两个基板对位时的偏差，增加液晶显示面板的开口率，降低液 晶显示面板的寄生电容，被广泛应用于液晶显示面板的制作中。

在阵列基板上制作黑色矩阵(Black Matrix)时，由于黑色 矩阵不具有透光性，因此在对黑色矩阵进行曝光时，容易造成阵 列基板和黑色矩阵的对位偏差，从而影响该BOA阵列基板的制作 质量，进而影响液晶显示面板的画面显示品质。

故，有必要提供一种BOA阵列基板的制作方法及BOA阵列 基板，以解决现有技术所存在的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种不易造成阵列基板和彩色滤光 片对位偏差的BOA阵列基板的制作方法及BOA阵列基板；以解 决现有的BOA阵列基板容易产生阵列基板和彩色滤光片的对位 偏差，进而影响液晶显示面板的画面显示品质的技术问题。

为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

本发明实施例提供一种BOA阵列基板的制作方法，其包括：

制作阵列基板，其中所述阵列基板包括显示区域以及非显示 区域，在所述阵列基板的所述非显示区域设置金属层，以阻挡所 述非显示区域的漏光；以及

在所述阵列基板的所述显示区域涂布黑色矩阵，并对所述黑 色矩阵进行图形化处理。

在本发明所述的BOA阵列基板的制作方法中，所述对所述黑 色矩阵进行图形化处理的步骤之后还包括步骤：

在所述阵列基板上涂布彩色光阻层，对所述彩色光阻层进行 图形化处理，以在所述阵列基板上形成彩色光阻；

其中所述彩色光阻包括红色光阻、蓝色光阻以及绿色光阻。

在本发明所述的BOA阵列基板的制作方法中，所述在所述阵 列基板上设置彩色光阻的步骤包括：

在所述阵列基板的所述非显示区域设置用于遮光的所述彩色 光阻。

在本发明所述的BOA阵列基板的制作方法中，所述用于遮光 的所述彩色光阻为红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻的叠层结构； 红色光阻和蓝色光阻的叠层结构；或红色光阻和绿色光阻的叠层 结构。

本发明还提供一种BOA阵列基板的制作方法，其包括：

制作阵列基板，其中所述阵列基板包括显示区域以及非显示 区域；

在所述阵列基板的所述显示区域涂布黑色矩阵，并对所述黑 色矩阵进行图形化处理；以及

在所述阵列基板上设置彩色光阻，其中在所述阵列基板的非 显示区域设置用于遮光的所述彩色光阻，以阻挡所述非显示区域 的漏光。

在本发明所述的BOA阵列基板的制作方法中，所述在所述阵 列基板上设置彩色光阻的步骤包括：

在所述阵列基板上涂布彩色光阻层，对所述彩色光阻层进行 图形化处理，以在所述阵列基板上形成彩色光阻；

其中所述彩色光阻包括红色光阻、蓝色光阻以及绿色光阻。

在本发明所述的BOA阵列基板的制作方法中，所述用于遮光 的所述彩色光阻为红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻的叠层结构； 红色光阻和蓝色光阻的叠层结构；或红色光阻和绿色光阻的叠层 结构。

本发明还提供一种BOA阵列基板，其包括：

阵列基板层，包括用于显示图像的显示区域以及用于间隔不 同像素的非显示区域；以及

黑色矩阵，设置在所述阵列基板层的所述显示区域，用于吸 收所述阵列基板层的所述非显示区域的出射光；

其中在所述阵列基板层的所述非显示区域设置有用于阻挡非 显示漏光的金属层。

在本发明所述的BOA阵列基板中，所述BOA阵列基板还包 括：

彩色光阻层，设置在所述阵列基板层的所述显示区域，用于 将所述BOA阵列基板的出射光转换为各种单色光，所述彩色光阻 层包括红色光阻、蓝色光阻以及绿色光阻；以及

遮光色阻层，设置在所述阵列基板层的所述非显示区域的所 述金属层上；

其中所述遮光色阻层为红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻的叠 层结构；红色光阻和蓝色光阻的叠层结构；或红色光阻和绿色光 阻的叠层结构。

本发明还提供一种BOA阵列基板，其包括：

阵列基板层，包括用于显示图像的显示区域以及用于间隔不 同像素的非显示区域；

黑色矩阵，设置在所述阵列基板层的所述显示区域，用于吸 收所述阵列基板层的所述非显示区域的出射光；

彩色光阻层，设置在所述阵列基板层的所述显示区域，用于 将所述BOA阵列基板的出射光转换为各种单色光，所述彩色光阻 层包括红色光阻、蓝色光阻以及绿色光阻；以及

遮光色阻层，设置在所述阵列基板层的所述非显示区域上；

其中所述遮光色阻层为红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻的叠 层结构；红色光阻和蓝色光阻的叠层结构；或红色光阻和绿色光 阻的叠层结构。

相较于现有的BOA阵列基板的制作方法及BOA阵列基板， 本发明的BOA阵列基板的制作方法及BOA阵列基板通过仅在 BOA阵列基板的显示区域设置黑色矩阵，从而不易造成阵列基 板和彩色滤光片的对位偏差；解决了现有的BOA阵列基板的制 作方法及BOA阵列基板容易产生阵列基板和黑色矩阵的对位偏 差，进而影响液晶显示面板的画面显示品质的技术问题。

为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施 例，并配合所附图式，作详细说明如下：

附图说明

图1为本发明的BOA阵列基板的制作方法的第一优选实施 例的流程图；

图2为本发明的BOA阵列基板的制作方法的第二优选实施 例的流程图；

图3为本发明的BOA阵列基板的制作方法的第三优选实施 例的流程图；

图4A为本发明的BOA阵列基板的第一优选实施例的结构 示意图；

图4B为沿图4A的A-A’截面线的截面图；

图5A为本发明的BOA阵列基板的第二优选实施例的结构 示意图；

图5B为沿图5A的B-B’截面线的截面图；

图6A为本发明的BOA阵列基板的第三优选实施例的结构 示意图；

图6B为沿图6A的C-C’截面线的截面图。

具体实施方式

以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可 用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如「上」、 「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅 是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理 解本发明，而非用以限制本发明。

在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。

请参照图1，图1为本发明的BOA阵列基板的制作方法的 第一优选实施例的流程图。本优选实施例的BOA阵列基板的制 作方法包括：

步骤S101，制作阵列基板，其中阵列基板包括显示区域以 及非显示区域，在阵列基板的非显示区域设置金属层，以阻挡非 显示区域的漏光；

步骤S102，在阵列基板的显示区域涂布黑色矩阵，并对黑 色矩阵进行图形化处理；

步骤S 103，在阵列基板上设置彩色光阻；

下面详细说明本优选实施例的BOA阵列基板的制作方法的 各步骤的具体流程。

在步骤S101中，制作阵列基板，该阵列基板可包括数据线、 扫描线、薄膜晶体管以及像素电极等。该阵列基板包括用于显示 图像的显示区域以及用于间隔或区分不同像素的非显示区域。使 用金属层制作阵列基板的数据线或扫描线时，在阵列基板的非显 示区域也设置该金属层，如数据线的第一金属层或扫描线的第二 金属层，这样可阻挡光线从非显示区域漏出，避免漏光现象的产 生；随后转到步骤S102。

在步骤S102中，使用狭缝式涂布(Slit Coating)机台在阵列 基板的显示区域涂布黑色矩阵，这样光刻机可通过阵列基板的非 显示区域对黑色矩阵区域进行对位，从而可对黑色矩阵进行准确 的图形化处理；随后转到步骤S103。

在步骤S103中，对阵列基板的显示区域上设置彩色光阻。 具体为，在阵列基板上涂布彩色光阻层，然后使用相应的光刻板 对彩色光阻层进行图形化处理，以在阵列基板的显示区域上形成 相应的彩色光阻，该彩色光阻包括红色光阻、蓝色光阻以及绿色 光阻。当然也可将彩色光阻直接设置在对盒基板上，其中对盒基 板和阵列基板形成液晶盒。

这样即完成了本优选实施例的BOA阵列基板的制作过程。

由于只在阵列基板的显示区域上设置有黑色矩阵，因此可以 很好的对黑色矩阵进行图形化处理以及设置相应的彩色光阻。同 时在阵列基板的非显示区域设置有相应的金属层，可有效的阻挡 背光源的出射光线从非显示区域漏出，避免漏光现象的产生。

本优选实施例的BOA阵列基板的制作方法仅在BOA阵列基 板的显示区域设置黑色矩阵，从而不易造成阵列基板和彩色滤光 片的对位偏差。同时在BOA阵列基板的非显示区域设置有金属 层，避免了漏光现象的产生。

请参照图2，图2为本发明的BOA阵列基板的制作方法的 第二优选实施例的流程图。本优选实施例的BOA阵列基板的制 作方法包括：

步骤S201，制作阵列基板，其中阵列基板包括显示区域以 及非显示区域，在阵列基板的非显示区域设置金属层，以阻挡非 显示区域的漏光；

步骤S202，在阵列基板的显示区域涂布黑色矩阵，并对黑 色矩阵进行图形化处理；

步骤S203，在阵列基板上设置彩色光阻，其中在阵列基板 的非显示区区域设置用于遮光的彩色光阻；

下面详细说明本优选实施例的BOA阵列基板的制作方法的 各步骤的具体流程。

在步骤S201中，制作阵列基板，该阵列基板可包括数据线、 扫描线、薄膜晶体管以及像素电极等。该阵列基板包括用于显示 图像的显示区域以及用于间隔或区分不同像素的非显示区域。使 用金属层制作阵列基板的数据线或扫描线时，在阵列基板的非显 示区域也设置该金属层，如数据线的第一金属层或扫描线的第二 金属层，这样可阻挡光线从非显示区域漏出，避免漏光现象的产 生；随后转到步骤S202。

在步骤S202中，使用狭缝式涂布(Slit Coating)机台在阵列 基板的显示区域涂布黑色矩阵，这样光刻机可通过阵列基板的非 显示区域对黑色矩阵区域进行对位，从而可对黑色矩阵进行准确 的图形化处理；随后转到步骤S203。

在步骤S203中，对阵列基板的显示区域上设置彩色光阻。 具体为，在阵列基板上涂布彩色光阻层，然后使用相应的光刻板 对彩色光阻层进行图形化处理，以在阵列基板的显示区域上形成 相应的彩色光阻，该彩色光阻包括红色光阻、蓝色光阻以及绿色 光阻。

由于设置在阵列基板的非显示区域的金属层可能反射背光 源的出射光，从而影响背光源的出射光。在本优选实施例的步骤 S203中，同时在阵列基板的非显示区域的金属层上设置用于遮 光的彩色光阻，该彩色光阻可以较好的对背光源的出射光进行吸 收，避免金属层对背光源的出射光的反射。该用于遮光的彩色光 阻包括但不限于红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻的三层叠层结 构；红色光阻和蓝色光阻的两侧叠层结构；或红色光阻和绿色光 阻的两侧叠层结构等。如将遮光的彩色光阻设置为红色光阻、绿 色光阻和蓝色光阻的三层叠层结构，可较好的对全波段的出射光 进行吸收。

同时由于用于遮光的彩色光阻为光阻的叠层结构，显示区域 的彩色光阻只有一个单色光阻层，因此用于遮光的彩色光阻的高 度大于显示区域的彩色光阻的高度，这样可以减少相应的液晶显 示面板的液晶使用量。

在第一优选实施例的基础上，本优选实施例的BOA阵列基 板的制作方法同时在BOA阵列基板的非显示区域的金属层上设 置有用于遮光的彩色光阻，避免了金属层的反射光对出射光线的 影响，进一步提高了相应的液晶显示面板的画面显示品质。

请参照图3，图3为本发明的BOA阵列基板的制作方法的 第三优选实施例的流程图。本优选实施例的BOA阵列基板的制 作方法包括：

步骤S301，制作阵列基板，其中阵列基板包括显示区域以 及非显示区域；

步骤S302，在阵列基板的显示区域涂布黑色矩阵，并对黑 色矩阵进行图形化处理；

步骤S303，在阵列基板上设置彩色光阻，其中在阵列基板 的非显示区域设置用于遮光的所述彩色光阻，以阻挡非显示漏 光；

下面详细说明本优选实施例的BOA阵列基板的制作方法的 各步骤的具体流程，

在步骤S301中，制作阵列基板，该阵列基板可包括数据线、 扫描线、薄膜晶体管以及像素电极等。该阵列基板包括用于显示 图像的显示区域以及用于间隔或区分不同像素的非显示区域。随 后转到步骤S302。

在步骤S302中，使用狭缝式涂布(Slit Coating)机台在阵列 基板的显示区域涂布黑色矩阵，这样光刻机可通过阵列基板的非 显示区域对黑色矩阵区域进行对位，从而可对黑色矩阵进行准确 的图形化处理；随后转到步骤S303。

在步骤S303中，对阵列基板的显示区域上设置彩色光阻。 具体为，在阵列基板上涂布彩色光阻层，然后使用相应的光刻板 对彩色光阻层进行图形化处理，以在阵列基板的显示区域上形成 相应的彩色光阻，该彩色光阻包括红色光阻、蓝色光阻以及绿色 光阻。

在本优选实施例的步骤S303中，同时在阵列基板的非显示 区域上设置用于遮光的彩色光阻，该彩色光阻可以较好的对背光 源的出射光进行吸收，避免阵列基板的非显示区域产生漏光现 象。该用于遮光的彩色光阻包括但不限于红色光阻、绿色光阻和 蓝色光阻的三层叠层结构；红色光阻和蓝色光阻的两侧叠层结 构；或红色光阻和绿色光阻的两侧叠层结构等。如将遮光的彩色 光阻设置为红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻的三层叠层结构，可 较好的对全波段的出射光进行吸收，达到最佳的阻挡非显示漏光 的效果。

同时由于用于遮光的彩色光阻为光阻的叠层结构，显示区域 的彩色光阻只有一个单色光阻层，因此用于遮光的彩色光阻的高 度大于显示区域的彩色光阻的高度，这样可以减少相应的液晶显 示面板的液晶使用量。

本优选实施例的BOA阵列基板的制作方法仅在BOA阵列基 板的显示区域设置黑色矩阵，从而不易造成阵列基板和彩色滤光 片的对位偏差。同时在BOA阵列基板的非显示区域设置有用于 遮光的彩色光阻，避免了漏光现象的产生。

本发明还提供一种BOA阵列基板，请参照图4A和图4B， 图4A为本发明的BOA阵列基板的第一优选实施例的结构示意 图；图4B为沿图4A的A-A’截面线的截面图。本优选实施例的 BOA阵列基板40包括阵列基板层41以及彩色滤光层42(该彩 色滤光层包括黑色矩阵以及彩色光阻层)，阵列基板层41包括用 于显示图像的显示区域411以及用于间隔不同像素的非显示区 域412；彩色滤光层42设置在阵列基板层41的显示区域，用于 将BOA阵列基板40的出射光转换为各种单色光以及吸收阵列基 板层40的非显示区域412的出射光，彩色滤光层42包括红色光 阻、蓝色光阻、绿色光阻以及黑色矩阵。其中在阵列基板层41 的非显示区域412还设置有用于阻挡非显示区域的漏光的金属 层413。

本优选实施例的BOA阵列基板40只在显示区域411上设置 有彩色滤光层42，因此可以很好的对黑色矩阵进行图形化处理 以及设置相应的彩色光阻。同时在非显示区域412设置有相应的 金属层，可有效的阻挡背光源的出射光线从非显示区域412漏 出，避免漏光现象的产生。

本优选实施例的BOA阵列基板仅在BOA阵列基板的显示区 域设置彩色滤光层，从而不易造成阵列基板和彩色滤光片的对位 偏差。同时在BOA阵列基板的非显示区域设置有金属层，避免 了漏光现象的产生。

请参照图5A和图5B，图5A为本发明的BOA阵列基板的 第二优选实施例的结构示意图；图5B为沿图4A的B-B’截面线 的截面图。本优选实施例的BOA阵列基板50包括阵列基板层 51、彩色滤光层52(该彩色滤光层包括黑色矩阵以及彩色光阻 层)以及遮光色阻层53，阵列基板层51包括用于显示图像的显 示区域511以及用于间隔不同像素的非显示区域512；彩色滤光 层52设置在阵列基板层51的显示区域511，用于将BOA阵列 基板50的出射光转换为各种单色光以及吸收阵列基板层50的非 显示区域512的出射光，彩色滤光层52包括红色光阻、蓝色光 阻、绿色光阻以及黑色矩阵，其中在阵列基板层51的非显示区 域512还设置有用于阻挡非显示漏光的金属层513；遮光色阻层 53设置在阵列基板层51的非显示区域512的金属层513上。

由于设置在非显示区域512的金属层513可能反射背光源的 出射光，从而影响背光源的出射光。在本优选实施例的BOA阵 列基板20同时在非显示区域512的金属层513上设置用于遮光 的遮光色阻层53(彩色光阻)，该遮光色阻层53可以较好的对 背光源的出射光进行吸收，避免金属层513对背光源的出射光的 反射。该遮光色阻层53包括但不限于红色光阻、绿色光阻和蓝 色光阻的三层叠层结构；红色光阻和蓝色光阻的两侧叠层结构； 或红色光阻和绿色光阻的两侧叠层结构等。如将遮光色阻层53 设置为红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻的三层叠层结构，可较好 的对全波段的出射光进行吸收，达到最佳的阻挡非显示漏光的效 果。

同时由于遮光色阻层53为光阻的叠层结构，显示区域的彩 色滤光层52只有一个单色光阻层，因此遮光色阻层53的高度大 于彩色滤光层52的高度，这样可以减少相应的液晶显示面板的 液晶使用量。

在第一优选实施例的基础上，本优选实施例的BOA阵列基 板同时在BOA阵列基板的非显示区域的金属层上设置有用于遮 光的遮光色阻层，避免了金属层的反射光对出射光线的影响，进 一步提高了相应的液晶显示面板的画面显示品质。

请参照图6A和图6B，图6A为本发明的BOA阵列基板的 第三优选实施例的结构示意图；图6B为沿图6A的C-C’截面线 的截面图。本优选实施例的BOA阵列基板60包括阵列基板层 61、彩色滤光层62(该彩色滤光层包括黑色矩阵以及彩色光阻 层)以及遮光色阻层63，阵列基板层61包括用于显示图像的显 示区域611以及用于间隔不同像素的非显示区域612；彩色滤光 层62设置在阵列基板层61的显示区域611，用于将BOA阵列 基板60的出射光转换为各种单色光以及吸收阵列基板层60的非 显示区域612的出射光，彩色滤光层62包括红色光阻、蓝色光 阻、绿色光阻以及黑色矩阵；遮光色阻层63设置在阵列基板层 61的非显示区域612上。

在本优选实施例的BOA阵列基板60的非显示区域612上设 置用于遮光的遮光色阻层63，该遮光色阻层63可以较好的对背 光源的出射光进行吸收，避免BOA阵列基板60的非显示区域 612产生漏光现象。该遮光色阻层63包括但不限于红色光阻、 绿色光阻和蓝色光阻的三层叠层结构；红色光阻和蓝色光阻的两 侧叠层结构；或红色光阻和绿色光阻的两侧叠层结构等。如将遮 光色阻层63设置为红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻的三层叠层 结构，可较好的对全波段的出射光进行吸收，达到最佳的阻挡非 显示漏光的效果。

同时由于遮光色阻层63为光阻的叠层结构，某个区域的彩 色滤光层62只有一个单色光阻层，因此遮光色阻层63的高度大 于彩色滤光层62的高度，这样可以减少相应的液晶显示面板的 液晶使用量。

本优选实施例的BOA阵列基板仅在BOA阵列基板的显示区 域设置黑色矩阵，从而不易造成阵列基板和彩色滤光片的对位偏 差。同时在BOA阵列基板的非显示区域设置有用于遮光的遮光 色阻层，避免了漏光现象的产生。

本发明的BOA阵列基板的制作方法及BOA阵列基板通过仅 在BOA阵列基板的显示区域设置黑色矩阵，从而不易造成阵列 基板和彩色滤光片的对位偏差；解决了现有的BOA阵列基板的 制作方法及BOA阵列基板容易产生阵列基板和彩色滤光片的对 位偏差，进而影响液晶显示面板的画面显示品质的技术问题。

综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优 选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱 离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明 的保护范围以权利要求界定的范围为准。