首页> 中国专利> 二维通信用低介电薄片及其制造方法、通信用薄片结构体

二维通信用低介电薄片及其制造方法、通信用薄片结构体

摘要

本发明提供一种可以用于二维通信用薄片结构体的、介电常数及介质损耗角正切为至今最低的二维通信用低介电薄片及其制造方法,另外提供使用了该二维通信用介电薄片的二维通信用结构体。提供一种二维通信用低介电薄片,其特征在于,其密度为0.01~0.2g/cm

著录项

  • 公开/公告号CN102549949A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-07-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日东电工株式会社;

    申请/专利号CN201080043986.0

  • 申请日2010-09-29

  • 分类号

  • 代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘新宇

  • 地址 日本大阪府

  • 入库时间 2023-12-18 05:55:46

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-09-18

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H04B13/00 授权公告日:20150826 终止日期:20170929 申请日:20100929

    专利权的终止

  • 2015-08-26

    授权

    授权

  • 2012-09-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):H04B13/00 申请日:20100929

    实质审查的生效

  • 2012-07-04

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号