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无掩膜直写式光刻机系统中图形数据灰度值的计算方法

摘要

本发明公开了一种无掩膜直写式光刻机系统中图形数据灰度值的计算方法,包括有使用空间光调制器(SLM)作为图形发生器的无掩膜直写式光刻机系统,通过对曝光图形的方向进行判断,区分SLM像素中被覆盖的部分和未被覆盖的部分,以梯形为基本单元,计算相应的被覆盖部分的面积大小即为边缘区域的灰度值。本发明通过一种采用面积覆盖的方式来进行图形反走样灰度的精确计算,提高了图形处理的精度,对于规则图形,理论上计算的灰度是就没有任何信息的丢失。而这种灰度处理算法最大优势还在于它的处理速度,相对于子像素填充的方法来计算灰度,本发明采用矢量数据可直接进行计算,大大减小了图形处理过程中数据量,提高了数据处理数据。

著录项

  • 公开/公告号CN102566312A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-07-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 合肥芯硕半导体有限公司;

    申请/专利号CN201210009369.X

  • 发明设计人 卢云君;蒋兴华;李显杰;

    申请日2012-01-13

  • 分类号G03F7/20;

  • 代理机构安徽合肥华信知识产权代理有限公司;

  • 代理人方峥

  • 地址 230601 安徽省合肥市经济技术开发区锦绣大道68号

  • 入库时间 2023-12-18 05:55:46

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-01-07

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G03F7/20 申请公布日:20120711 申请日:20120113

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2012-09-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20120113

    实质审查的生效

  • 2012-07-11

    公开

    公开

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