正性光刻胶用显影液及光刻工艺中的显影方法

摘要

本发明提供了一种正性光刻胶用显影液，包括：碱性物质、水、表面活性剂和蛋白水解酶。本发明还提供了一种光刻工艺中的显影方法，包括以下步骤：提供半导体晶片，所述半导体晶片上具有由正性光刻胶形成的光敏材料层，所述光敏材料层与所述半导体晶片之间具有胺类增黏剂形成的膜；向所述光敏材料层喷洒上述技术方案所述的显影液，使所述光敏材料层可溶解区域的光敏材料溶解；向所述光敏材料层喷洒去离子水，去除所述溶解后的光敏材料。本发明提供的正性光刻胶显影液中，蛋白水解酶能够催化曝光过程中生成的溶解度较小的肽键化合物进行水解，使其溶于显影液中，从而减少了光刻胶残留的缺陷，不会对后续的刻蚀工艺或离子注入工艺造成影响。