用于金属基底的半水性剥离和清洁制剂及其使用方法

摘要

本发明涉及用于金属基底的半水性剥离和清洁制剂及其使用方法，以除去整体光致抗蚀剂、蚀刻后和灰化后的残留物以及污染物。该制剂包括：链烷醇胺、水可混溶的有机共溶剂、季铵化合物、非游离酸官能团缓蚀剂，以及剩余物水。pH大于9。