工艺窗发觉检测以及掩模层处光刻印刷问题的校正

摘要

在本发明的一个方面中，一种方法利用根据至少两个印刷临界性等级对光学参数空间进行分类提供了用于临界特征印刷工艺的标定的临界失败模型。基于用于临界特征的印刷失败标准判断相应临界特征的印刷失败。对于光学参数空间中的给定点，相应的印刷临界性等级根据工艺窗采样点处的测试-印刷-模拟数据以及根据失败规则来确定。该方法所实现的一个优点在于其包括根据工艺窗的唯一一个采样点处的测试-印刷-模拟数据确定预定光学参数组，该采样点对于所有的测试图案都相同。这通过减少所确定的光学参数组的数量及其随后扫描和分类步骤中的工艺而节省了工艺时间和工艺复杂性。