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制备右佐匹克隆晶型A,基本纯净的右佐匹克隆和光学富集的右佐匹克隆的方法

摘要

本发明提供了一种制备右佐匹克隆晶型A、基本上化学纯的右佐匹克隆、或者具有低含量的残留溶剂(一种或多种)的右佐匹克隆的方法。本发明还提供了具有低含量的残留溶剂(一种或多种)的右佐匹克隆。本发明还提供了一种用于右佐匹克隆游离碱的光学富集的方法。例如,本发明一种实施方案是涉及一种制备右佐匹克隆晶型A的方法,其中该方法包括从溶剂中结晶右佐匹克隆游离碱,该溶剂选自异丙醇(IPA),甲基异丁基酮(MIBK),丙酮,正丁醇,异丁醇异丁醇,2-丁醇,四氢呋喃(THF),碳酸二甲酯,甲醇,乙醇,乳酸乙酯,二甲基甲酰胺(DMF),四氯化碳,甲苯,乙酸异丁酯和其混合物。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-12-21

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C07D487/04 公开日:20090506 申请日:20070420

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2009-07-01

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-05-06

    公开

    公开

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