颗粒产生少的磁记录膜形成用Co基烧结合金溅射靶的制造方法、及磁记录膜形成用Co基烧结合金溅射靶

摘要

一种颗粒产生少的磁记录膜形成用Co基烧结合金溅射靶的制造方法，其特征在于，作为原料粉末，准备含有Cr：50～70原子％、余量为Co的Cr－Co合金粉末、Pt粉末、非磁性氧化物粉末及Co粉末，将上述原料粉末配合、混合成含有非磁性氧化物：2～15摩尔％、Cr：3～20摩尔％、Pt：5～30摩尔％、余量：Co的成分组成后，进行加压烧结；一种颗粒产生少的磁记录膜形成用Co基烧结合金溅射靶的制造方法，作为原料粉末，准备含有Pt：10～90原子％、余量为Cr的Pt－Cr二元系合金粉末、Pt粉末、非磁性氧化物粉末、及Co粉末，将上述原料粉末配合、混合成含有非磁性氧化物：2～15摩尔％、Cr：3～20摩尔％、Pt：5～30摩尔％、余量：Co的成分组成后，进行加压烧结；以及一种磁记录膜形成用Co基烧结合金溅射靶，含有非磁性氧化物：2～15摩尔％、Cr：3～20摩尔％、Pt：5～30摩尔％、余量：Co及无法避免的杂质的成分组成，基体中绝对最大长度超过5μm的铬氧化物凝集体在500个/mm