法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2010-07-21
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):B01J20/10 公开日:20080806 申请日:20080109
发明专利申请公布后的视为撤回
2008-10-01
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-08-06
公开
公开
机译: 黄曲霉毒素的模板,黄曲霉毒素POLIM u00c9RICO中间体模板的化合物的合成方法,分子印迹聚合物,分子印迹分子印迹聚合物的制备方法以及黄曲霉毒素的secuestraci u00d3n方法
机译: 一种通过γ射线作为选择性吸附剂和传感器组分的分子印迹乙烯基聚合物的合成方法
机译: 分子印迹的聚合物吸附剂的制备方法