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增强检光器晶粒抗反偏压静电损害能力的环礁式静电释放装置

摘要

本发明的增强检光器晶粒抗反偏压静电损害能力的环礁式静电释放装置,增加静电荷的释放路径以增强晶粒抗反偏压静电损害能力,于检光器晶粒四周增加释放静电路径为P型金属层、降低电阻区、P型半导体区、i型光吸收层、N型缓冲层、N型基板、N型金属层,疏导大部分静电荷于晶粒四周释放,以避免大部分静电荷集中于晶粒中间贯穿而造成晶粒损害,达到增强晶粒抗反偏压静电损害能力。

著录项

  • 公开/公告号CN101170143A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2008-04-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 联亚光电工业股份有限公司;

    申请/专利号CN200610150005.8

  • 发明设计人 林蔚;

    申请日2006-10-24

  • 分类号H01L31/105(20060101);H01L31/02(20060101);

  • 代理机构11239 北京天平专利商标代理有限公司;

  • 代理人孙刚;赵海生

  • 地址 中国台湾台南县永康市中正路217巷1号

  • 入库时间 2023-12-17 20:02:40

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-03-11

    授权

    授权

  • 2008-06-25

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-04-30

    公开

    公开

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