法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-03-23
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F7/20 公开日:20080507 申请日:20070718
发明专利申请公布后的视为撤回
2008-07-02
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-05-07
公开
公开
机译: 用于IC光刻的分级抗反射涂层
机译: 用于IC光刻的分级抗反射涂层
机译: 在用于微光刻的照明系统中用于形成光瞳的微镜装置,具有抗反射涂层,该抗反射涂层具有由非金属材料制成的吸收层,其吸收系数和波长被设置为特定值