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用于高数值孔径和浸润式光刻的分级式抗反射涂层

摘要

本发明提供一种利用分级抗反射涂层形成器件的方法。在基底上形成一层或多层无定形碳层。在一层或多层无定形碳层上形成抗反射涂层(ARC),其中所述ARC层的吸收系数随着所述ARC层的厚度而改变。在所述ARC层上形成能量敏感抗蚀材料。通过将所述能量敏感抗蚀材料暴露于图案化的辐射下,将图案的图像导入能量敏感抗蚀材料层中。显影出导入能量敏感抗蚀材料层的所述图案的图像。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-03-23

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F7/20 公开日:20080507 申请日:20070718

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2008-07-02

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-05-07

    公开

    公开

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