公开/公告号CN101122736A
专利类型发明专利
公开/公告日2008-02-13
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML蒙片工具有限公司;
申请/专利号CN200710149453.0
申请日2007-07-05
分类号G03F1/00;G03F7/00;H01L21/027;
代理机构中科专利商标代理有限责任公司;
代理人王波波
地址 荷兰维德霍温
入库时间 2023-12-17 19:45:36
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-02-02
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F1/00 公开日:20080213 申请日:20070705
发明专利申请公布后的视为撤回
2008-04-09
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-02-13
公开
公开
机译: 改进的CPL掩模及其生成方法和程序产品
机译: 改进的CPL掩模及其生成方法和程序产品
机译: 改进的CPL掩模及其生成方法和程序产品