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一种氧化锌掺钴室温稀磁半导体材料的制备方法

摘要

本发明提供一种室温稀磁宽禁带半导体氧化锌掺钴材料的方法,属于新型半导体自旋电子器件材料制备领域。该方法首先采用固相烧结法制备ZnO中掺入Co杂质,即将高纯的ZnO粉末和钴的氧化物粉末按一定的成份配比混合后,使用行星式球磨机在玛瑙罐中混料长时间湿法球磨,球磨料经烘干、研磨,反应烧结,再特殊退火处理,即使用一定比例的惰性气体和氢气混合气体,对掺杂的氧化锌稀磁半导体材料进行退火处理。退火后的CoxZn1-xO材料具有室温铁磁性,采用本发明可制得具有室温铁磁性的掺钴氧化锌稀磁半导体材料。

著录项

  • 公开/公告号CN101016164A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2007-08-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京大学;

    申请/专利号CN200710003498.7

  • 申请日2007-02-09

  • 分类号C01G1/02(20060101);C01G9/02(20060101);C01G51/04(20060101);H01L21/34(20060101);C04B35/453(20060101);C04B35/622(20060101);

  • 代理机构北京君尚知识产权代理事务所;

  • 代理人贾晓玲

  • 地址 100871 北京市海淀区颐和园路5号

  • 入库时间 2023-12-17 18:59:03

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-08-12

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2007-10-10

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-08-15

    公开

    公开

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