微光刻技术用光刻胶组合物中的溶解抑制剂

摘要

本发明涉及一种适于在10－165nm使用的光刻胶组合物，所述光刻胶组合物包括：(a)高分子粘合剂(b)光活性化合物(c)溶解抑制剂，所述溶解抑制剂包括至少(i)两个芳基、(ii)氟和(iii)经保护的酸基，当未经保护时，所述酸基的pKa＜12。优选的溶解抑制剂是任选经保护的双苯酚衍生物，其中所述桥碳原子用氟化脂族基取代。