一种测量刻蚀机反应腔室漏率的方法

摘要

本发明涉及半导体刻蚀领域，本发明提供了一种测量刻蚀机反应腔室漏率的方法，本发明的方法建立了一个数据表，该数据表保存了各种反应腔室的类型对应的气压稳定时间和测量间隔时间数据，漏率检测程序启动后，自动检测反应腔室类型，并根据数据表中的数据，设定相应的气压稳定时间和测量间隔时间，本发明的技术方案能适用于各种不同类型的反应腔室，并且测试过程全部由计算机完成，使使用者能便捷的获得漏率值。