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用于设计具有增强的可制造性的集成电路的系统

摘要

公开了一种用于集成电路设计的方法和系统,用以通过产生捕获局部化布局需求的分级设计规则来增强电路布局的可制造性。与应用全局设计规则的常规技术相比,所公开的IC设计系统和方法基于指定的布局和集成电路属性,将原始设计布局分成期望的粒度水平。在该局部化的水平,适当调整设计规则以从可制造性的观点来捕获关键方面。这些经调整的设计规则然后用来执行局部化布局操纵和掩模数据转换。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-03-23

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G06F17/50 公开日:20060920 申请日:20060217

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2008-04-16

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-09-20

    公开

    公开

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