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坯料及其形成方法,使用该坯料的黑色矩阵及其形成方法

摘要

一种坯料和黑色矩阵,其具有高耐候性,并且在低反射率,遮光效果和可加工性方面也很好,并且不会造成严重的环境污染,从而能够符合由于显示工艺的显著进步,处理负荷能力提高的需求。该种坯料具有直接或间接附着在透明基板表面上而形成的遮光膜或遮光膜和防反射膜,遮光膜包含Ni,Mo和Ti作为主要金属成分,Ti含量为10-25原子%。

著录项

  • 公开/公告号CN1815327A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2006-08-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 爱发科成膜株式会社;

    申请/专利号CN200510121620.1

  • 申请日2005-12-07

  • 分类号

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人蔡胜有

  • 地址 日本埼玉县

  • 入库时间 2023-12-17 17:33:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2008-08-27

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2006-08-09

    公开

    公开

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