法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2008-03-19
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-09-06
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-07-12
公开
公开
机译: 用于曝光系统的掩模具有遮光区域,该遮光区域包括具有晶格常数的光子晶体,其中,晶格常数与光的波长之比是在光子晶体的带隙内的比值。
机译: 具有带肋波导的半导体衬底上的光可开关晶体管-具有比波导具有更高的折射率和更小的带隙的材料制成的基底
机译: 具有可变带隙的光子晶体装置,使用其的光波导以及使用其的光合分波装置