法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-02-04
授权
授权
2006-01-11
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-11-16
公开
公开
机译: 用于形成绝缘膜的涂料组合物,使用该组合物制备低介电绝缘膜的方法,由该组合物制备的用于半导体器件的低介电绝缘膜以及包括该绝缘膜的半导体器件
机译: 用于形成绝缘膜的涂料组合物,使用该组合物制造低介电绝缘膜的方法,由该组合物制备的用于半导体器件的低介电绝缘膜以及包括该绝缘膜的半导体器件
机译: 用于绝缘膜生产的涂料组合物,使用该绝缘膜制备绝缘膜的方法,由其制备的用于半导体器件的绝缘膜以及包括该绝缘膜的半导体器件