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减少了延迟变动的场效应晶体管

摘要

在具有第一导电类型的沟道、源和漏区的化合物半导体层内设置减少了延迟变动的场效应晶体管。在上述的区域上分别形成栅、源和漏电极。特别是栅电极设有在与所述源和漏区的相对方向交叉的方向上延伸的伸出部分,并从沟道区伸出。在该化合物半导体层中,形成与第一导电类型相反的第二导电类型的阱区,以便比在沟道、源和漏区内更深地围住沟道区、源区和漏区以及栅电极的伸出部分。通过用第二导电类型的阱区围住包括伸出部分的栅电极,使延迟变动显著地减少。

著录项

  • 公开/公告号CN1389929A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2003-01-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 富士通株式会社;

    申请/专利号CN01117216.9

  • 发明设计人 金子良明;

    申请日1997-01-17

  • 分类号H01L29/772;H01L21/335;

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人王永刚

  • 地址 日本神奈川

  • 入库时间 2023-12-17 14:32:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2005-05-04

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2003-04-02

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-01-08

    公开

    公开

  • 2002-10-09

    实质审查的生效

    实质审查的生效

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