首页> 中国专利> 电沉积抗电侵蚀的复合镀银层

电沉积抗电侵蚀的复合镀银层

摘要

采用复合电沉积的方法,在铜或其他金属基体上沉积一层以银为主,含有占镀层体积0.1-2%,粒径为0.5-20微米的氧化镧微粒。这种复合银镀层具有较高的显微硬度,HV达90-100,比纯银高得多的耐磨性和耐电侵蚀性,电气性能与纯银相近,用来作电触点的表面层可以节约50-85%的白银。

著录项

  • 公开/公告号CN85102279A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日1987-07-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 天津大学;

    申请/专利号CN85102279

  • 发明设计人 郭鹤桐;唐志远;王兆勇;姚素薇;

    申请日1985-04-01

  • 分类号C25D3/64;C25D15/00;

  • 代理机构天津大学专利代理事务所;

  • 代理人张宏祥

  • 地址 天津市南开区七里台天津大学

  • 入库时间 2023-12-17 11:57:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 1989-02-15

    实质审查请求

    实质审查请求

  • 1987-07-29

    公开

    公开

  • 1986-01-10

    被视为撤回的申请

    被视为撤回的申请

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号