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用于监控工件的射束处理的装置及其用途、用于工件的射束处理的装置及其用途、用于监控工件的射束处理的方法、用于工件的射束处理的方法

摘要

提供了一种用于监控工件的射束处理的装置和方法。该装置包括:至少一个照射装置(12),所述至少一个照射装置用于在第一时间间隔期间照射工件的处理区域;检测装置(15),该检测装置用于检测从处理区域发出的电磁辐射;以及处理装置(19),该处理装置用于对在第一时间间隔内和第二时间间隔内检测到的电磁辐射进行单独的处理。此外,提供了一种用于工件的激光射束处理的装置和方法。

著录项

  • 公开/公告号CN111479648A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-07-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 百超激光有限公司;

    申请/专利号CN201880078611.4

  • 发明设计人 安德烈亚斯·吕迪;

    申请日2018-12-05

  • 分类号B23K26/03(20060101);B23K31/12(20060101);B23K26/38(20140101);

  • 代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人王艳江;严小艳

  • 地址 瑞士尼德罗兹

  • 入库时间 2023-12-17 11:28:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-31

    公开

    公开

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