基于改进灰关联模型的磁控溅射工艺参数优化方法

摘要

本发明公开了一种基于改进灰关联模型的磁控溅射工艺参数优化方法，采用改进的灰关联模型获得磁控溅射工艺参数对膜层性能的影响，通过对各性能指标之间存在的关系以及镀膜组织结构的分析，获得不同磁控溅射工艺对膜层厚度和光学透过率的影响，进而对磁控溅射工艺参数进行优化。本发明针对传统灰关联模型分析的不足，考虑了数据间绝对位置差异的权重和变化率差异的权重，构建改进灰关联模型，通过实验得到最佳参数值，相对传统方法更能准确提供工艺参数影响膜厚和透过率的大小程度，进而实现磁控溅射工艺参数优化。