首页> 中国专利> 阳极靶的制作方法、阳极靶、X射线源及X射线成像系统

阳极靶的制作方法、阳极靶、X射线源及X射线成像系统

摘要

本发明实施例公开了一种阳极靶的制作方法、阳极靶、X射线源及X射线成像系统。该阳极靶的制作方法包括:在基底上形成呈周期性排列的第一沟槽;将与所述第一沟槽开口相匹配的金属钨线固定在所述第一沟槽内以形成对应沟槽图形的阳极靶。本发明实施例实现了降低X射线源的制作难度以适合批量生产。

著录项

  • 公开/公告号CN111370277A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-07-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 深圳大学;

    申请/专利号CN202010195244.5

  • 发明设计人 宗方轲;金川;杨君;

    申请日2020-03-19

  • 分类号H01J9/02(20060101);H01J35/08(20060101);G01N23/041(20180101);G01N23/083(20180101);G01N23/20008(20180101);

  • 代理机构11332 北京品源专利代理有限公司;

  • 代理人孟金喆;潘登

  • 地址 518060 广东省深圳市南山区南海大道3688号

  • 入库时间 2023-12-17 10:24:54

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J9/02 申请日:20200319

    实质审查的生效

  • 2020-07-03

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号