首页> 中国专利> 一种测量全息母版刻槽深度的方法

一种测量全息母版刻槽深度的方法

页面导航

摘要

本发明公开了一种测量全息母版刻槽深度的方法，属于颜色测量技术领域；其步骤包括：(1)选取n种不同类别、不同种类的全息母版作为待测试母版；(2)选择颜色测量仪器，测量待测试母版的明度值L

1. 一种测量全息母版刻槽深度的方法 [P] . 中国专利： CN111366096B . 2021.09.14
2. 一种测量全息母版刻槽深度的方法 [P] . 中国专利： CN111366096A . 2020-07-03
3. A master hologram and method and apparatus for producing a master hologram for a contact printing method [P] . 德国专利： DE102015220123A1 . 2017-04-20

机译：母版全息图以及用于产生用于接触印刷方法的母版全息图的方法和设备
4. METHOD AND INSTRUMENT FOR MEASURING DEPTH OF ETCHED GROOVE, FILM THICKNESS, AND STEP [P] . 日本专利： JP2001118832A . 2001-04-27

机译：测量刻槽深度，膜厚和台阶的方法和仪器
5. Method of measuring plating film thickness and etching groove depth in wet process [P] . 日本专利： JP2950016B2 . 1999-09-20

机译：在湿法中测量镀膜厚度和蚀刻槽深度的方法