一种中温龙泉青釉的烧制工艺及其烧制设备

摘要

本发明公开了一种中温龙泉青釉的烧制工艺及设备，其氧化物化学组成按重量百分比计为：62～66％SiO2，14～16％Al2O3，0.3～0.8％MgO，11～17％CaO，3～5％K2O，0.2～0.5％Na2O，0～0.25％TiO2，0.03～0.1％MnO，0.1～0.15％Fe2O3，此中温龙泉青釉的烧制工艺及其烧制设备，区别于现有技术，在解决了大批量生产过程中，其青釉易出现色差的难题的同时，能够保证青釉烧制过程中的均匀稳定烧制，能够对各尺寸青瓷进行高效的旋转烧制防护，保证绝对稳定安全的均匀烧制，且同时能够对倾斜的青瓷进行有效的复位，进而保证高质量烧制。