用于将液体和固体流出物收集并随后反应成气体流出物的设备

摘要

本文所公开的实施方式包括用于消除在半导体工艺中产生的化合物的消除系统。消除系统包括位于等离子体源下游的排放冷却设备。排放冷却设备包括板和设置在所述板下游的冷却板。在操作期间，在板上收集的材料与清洁自由基反应以形成气体。板的温度高于冷却板的温度，以改善清洁自由基与板上的材料的反应的反应速率。