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原子探针断层分析样品的制备方法

摘要

本揭示案的实施例涉及原子探针断层分析(APT)样品的制备方法。将半导体装置中的一结构识别为包括用于APT程序的测试物件。在将获取APT样品的结构中识别靶区域。对靶区域进行分析,以判断其内是否存在问题元件特征。问题元件可包括难以蒸发的材料、中空区域、相对于测试物件不可识别的材料、或对APT分析造成问题的其他结构特征。若判定问题元件存在于靶区域中,则在制备APT样品之前,将问题元件替换为更适合的材料。

著录项

  • 公开/公告号CN110783313A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-02-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 台湾积体电路制造股份有限公司;

    申请/专利号CN201910698003.X

  • 发明设计人 洪世玮;李正中;

    申请日2019-07-31

  • 分类号

  • 代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐金国

  • 地址 中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号

  • 入库时间 2023-12-17 07:00:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-02-11

    公开

    公开

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