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一种聚焦电子束蒸发源及蒸发镀膜装置

摘要

本发明公开了一种聚焦电子束蒸发源及蒸发镀膜装置,蒸发源包括:电子束产生装置:用于产生大束流平行电子束;电子束传输装置:用于使所述大束流平行电子束加速后聚集为汇聚束,并传输到电子束最小束斑位置;蒸发材料输送装置:用于在接收到电子束检测装置的检测信号后将丝状蒸发材料输送到所述电子束最小束斑位置;至少一个电子束检测装置:用于检测经过电子束最小束斑位置之后的发散束。本发明的蒸发源可以根据蒸发速率的不同调整电子束产生装置的功率,进而改变电子束的功率密度;蒸发镀膜装置能保证薄膜生长速率高、均匀性好。

著录项

  • 公开/公告号CN104611672A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-05-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201410698963.3

  • 发明设计人 张赛;孙雪平;易文杰;彭立波;

    申请日2014-11-28

  • 分类号C23C14/30;

  • 代理机构长沙正奇专利事务所有限责任公司;

  • 代理人马强

  • 地址 410111 湖南省长沙市天心区新开铺路1025号

  • 入库时间 2023-12-17 04:53:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-04

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C14/30 申请公布日:20150513 申请日:20141128

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2015-06-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/30 申请日:20141128

    实质审查的生效

  • 2015-05-13

    公开

    公开

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