抗蚀剂图案形成方法、抗蚀剂图案、使用有机溶剂显影的可交联负型化学增幅型抗蚀剂组合物、抗蚀剂膜及抗蚀剂涂布空白遮罩

摘要

本发明提供一种抗蚀剂图案形成方法，依序包含：(1)使用负型化学增幅型抗蚀剂组合物形成抗蚀剂膜，其中负型化学增幅型抗蚀剂组合物含有如下组分：具有如在本说明书中所定义的由式(1)表示的重复单元的(A)聚合物化合物、(B)能够在用光化射线或辐射照射后产生酸的化合物以及(C)能够由酸的作用交联聚合物化合物(A)的交联剂；(2)使抗蚀剂膜曝光，从而形成经曝光的抗蚀剂膜；以及(4)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的抗蚀剂膜显影。