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使用平面几何结构的光栅设备进行X射线相衬成像和暗场成像的方法

摘要

一种适于记录对象的吸收、相衬和暗场图像的X射线装置。该设备提高了低吸收样本的可见度并且降低了所需的辐射剂量。该设备包括:a)X射线源;b)至少两个光栅构成的光栅组;c)具有空间调制检测灵敏度的位置灵敏检测器(PSD);d)用于记录检测器(PSD)的图像的装置;e)用于估计每个像素的强度以将用于每个单独的像素的对象的特征标识为吸收主导像素和/或差分相位衬度主导像素和/或X射线散射主导像素的装置;f)其中,通过从0到π或2π连续或逐步地旋转样本或相对于样本旋转设备来采集一系列图像;g)其中,根据X射线平行于衬底穿过光栅的新的平面几何结构来制造光栅;h)从而光栅结构沿着X射线路径延伸,X射线路径确定这些光栅结构对X射线造成的相移和衰减,X射线路径不再由结构的厚度给定,而是由光栅结构的长度给定。

著录项

  • 公开/公告号CN102971620A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-03-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 保罗·谢勒学院;

    申请/专利号CN201180032532.8

  • 申请日2011-04-04

  • 分类号G01N23/04(20060101);G21K1/02(20060101);A61B6/00(20060101);

  • 代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人朱胜;陈炜

  • 地址 瑞士菲利根

  • 入库时间 2024-02-19 17:57:55

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-11-23

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G01N23/04 申请公布日:20130313 申请日:20110404

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2013-06-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N23/04 申请日:20110404

    实质审查的生效

  • 2013-03-13

    公开

    公开

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