首页> 中国专利> OPC模型建立过程中针对大尺寸非关键层图形的光学参数优化方法

OPC模型建立过程中针对大尺寸非关键层图形的光学参数优化方法

摘要

本发明公开了一种OPC模型建立过程中针对大尺寸非关键层图形的光学参数优化方法,包括:收取最佳曝光条件下的CDSEM数据;初选离胶起始位置的初始值和光束焦点的初始值;构建离胶起始位置‑光束焦点的所有初始值组合;对每个离胶起始位置‑光束焦点的初始值组合进行复选,在每个离胶起始位置‑光束焦点的初始值组合中确定一个离胶起始位置‑光束焦点的最佳值组合;对所有的离胶起始位置‑光束焦点的最佳值组合进行分析比对,从中确定最终的离胶起始位置‑光束焦点组合。本发明在不需要收集工艺窗口条件下的CDSEM数据的前提下,可以对离胶起始位置和光束焦点进行快速高效的筛选和组合,而且可以同时获得多个离胶起始位置‑光束焦点组合,提供更多选择。

著录项

  • 公开/公告号CN110209011A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-09-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力集成电路制造有限公司;

    申请/专利号CN201910382467.X

  • 发明设计人 魏娟;

    申请日2019-05-09

  • 分类号

  • 代理机构上海浦一知识产权代理有限公司;

  • 代理人栾美洁

  • 地址 201315 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区康桥东路298号1幢1060室

  • 入库时间 2024-02-19 13:49:37

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/36 申请日:20190509

    实质审查的生效

  • 2019-09-06

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号