改善光刻胶与基底粘附度的光刻方法

摘要

本发明提供了一种改善光刻胶与基底粘附度的光刻方法，涉及光刻工艺技术领域，本发明提供的改善光刻胶与基底粘附度的光刻方法包括对基底进行烘烤；将烘烤后的基底进行匀胶处理；对匀胶后的基底进行曝光处理；对曝光后的基底进行曝光后烘；对曝光后烘的基底进行静置冷却；对基底进行显影。本发明提供的改善光刻胶与基底粘附度的光刻方法无需使用基底表面增粘剂，通过匀胶前对基底的烘烤，以及曝光后的烘烤以及烘烤后的静置冷却，能够有效的提高了基底与光刻胶之间的粘附度，满足工艺要求，无需额外增加设备模组。