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一种低温下快速调控变形钨材料显微组织的退火工艺

摘要

本发明公开了一种低温下快速调控变形钨(W)材料显微组织的退火工艺,采用放电等离子体烧结(SPS)技术对样品进行加热,并利用其作用在样品上的直流脉冲电流,加速变形W材料的显微组织演变。通过改变SPS工艺参数对W材料的显微组织进行调控。本发明采用SPS技术对W材料实现高效、节能退火处理,调控其显微组织。选用的退火温度低于1000℃,整个退火工艺持续时间小于60min,相比常规真空条件下变形W材料退火(在1350℃下再结晶退火需要保温数小时)表现出明显的优势。

著录项

  • 公开/公告号CN110205573A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-09-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 合肥工业大学;

    申请/专利号CN201910547049.1

  • 申请日2019-06-24

  • 分类号C22F1/18(20060101);C21D1/26(20060101);C21D1/38(20060101);

  • 代理机构34101 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司;

  • 代理人乔恒婷

  • 地址 230009 安徽省合肥市包河区屯溪路193号

  • 入库时间 2024-02-19 13:17:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):C22F1/18 申请日:20190624

    实质审查的生效

  • 2019-09-06

    公开

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