首页> 中国专利> 一种带有多级过滤钇源大颗粒反应物机构的MOCVD装置

一种带有多级过滤钇源大颗粒反应物机构的MOCVD装置

摘要

本发明公开了一种带有多级过滤钇源大颗粒反应物机构的MOCVD装置,包括真空镀膜腔室,真空泵和多级过滤机构;所述多级过滤机构下部设置有过滤入口;所述多级过滤机构上部设置有过滤出口;所述过滤入口与真空镀膜腔室连通;所述过滤出口真空泵连通。本案经过不同目数的过滤网多级过滤后,解决多余钇原子大颗粒反应物进入真空泵问题;同时过滤网上方增加了凸轮机构和电机,将残留在过滤网上的粉尘脱落下来,延长过滤网使用寿命;有效保护真空泵,保证MOCVD中镀膜工艺的成品率和效率。

著录项

  • 公开/公告号CN110172679A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-08-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 苏州新材料研究所有限公司;

    申请/专利号CN201910439518.8

  • 发明设计人 夏佑科;

    申请日2019-05-24

  • 分类号C23C16/44(20060101);C23C16/18(20060101);

  • 代理机构32103 苏州创元专利商标事务所有限公司;

  • 代理人范晴;吴音

  • 地址 215125 江苏省苏州市工业园区星湖街218号生物纳米园C18栋

  • 入库时间 2024-02-19 12:31:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-09-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C16/44 申请日:20190524

    实质审查的生效

  • 2019-08-27

    公开

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