光学邻近校正（OPC）方法及使用该OPC方法制造掩模的方法

摘要

本发明提供了可以有效控制拐角圆滑的光学邻近校正(OPC)，以及使用所述OPC方法执行的掩模制造方法。根据所述OPC方法，通过布局的分解生成内部边缘，并基于所述内部边缘计算内部片段的位移(DISin_frag)和所选中的片段的位移(DISsel)以额外地移位片段，以便在不违反掩模规则检查(MRC)的情况下制造具有最小拐角圆滑的掩模布局。