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一种InP基量子点材料结构及扩展其发光波长的方法

摘要

本发明公开了一种InP基量子点材料结构及扩展其发光波长的方法。该材料结构包括:掺杂锑源的量子点有源区结构,该量子点有源区结构包括:自下而上生长的浸润层、量子点层和盖层;进一步包括在衬底上生长缓冲层、下限制层、上述量子点有源区结构和上限制层。利用本发明,在合适的生长条件下掺入锑原子能够与InAs量子点结合,形成InAsSb三元合金,有效收缩能带带隙,扩展InP基量子点材料的发光波长,这一方法对InP基长波长量子点发光及探测器件的制备具有重要的意义。

著录项

  • 公开/公告号CN109671823A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-04-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;

    申请/专利号CN201811500893.0

  • 申请日2018-12-07

  • 分类号H01L33/30(20100101);H01L33/06(20100101);H01L33/00(20100101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人张宇园

  • 地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号

  • 入库时间 2024-02-19 09:04:37

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-05-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L33/30 申请日:20181207

    实质审查的生效

  • 2019-04-23

    公开

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