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用于制造金属氧化物半导体场效应晶体管的方法和金属氧化物半导体场效应晶体管

摘要

公开了用于制造金属氧化物半导体场效应晶体管的方法和金属氧化物半导体场效应晶体管。一种用于制造MOSFET半导体器件的方法,包括提供晶片,晶片包括:半导体本体,该半导体本体包括第一侧、与第一侧相邻的第一半导体区、与第一侧相邻并且与第一半导体区形成第一pn结的第二半导体区、以及与第一侧相邻并且与第二半导体区形成第二pn结的第三半导体区;布置在第一侧上的第一电介质层;嵌入在第一电介质层中的栅极电极;和布置在第一电介质层上的第二电介质层。在栅极电极旁边形成通过第一电介质层和第二电介质层的沟槽。在沟槽的侧壁处形成电介质间隔壁。沟槽延伸到半导体本体中以形成接触沟槽。

著录项

  • 公开/公告号CN109494156A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-03-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 英飞凌科技奥地利有限公司;

    申请/专利号CN201811056173.X

  • 申请日2018-09-11

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人刘书航

  • 地址 奥地利菲拉赫西门子大街2号

  • 入库时间 2024-02-19 08:33:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-31

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/336 申请日:20180911

    实质审查的生效

  • 2019-03-19

    公开

    公开

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