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公开/公告号CN109540050A
专利类型发明专利
公开/公告日2019-03-29
原文格式PDF
申请/专利权人 三星电子株式会社;
申请/专利号CN201811117478.7
发明设计人 朴爰柱;李亨周;崔硕桓;南东锡;韩允泽;
申请日2018-09-20
分类号G01B15/00(20060101);H01L21/66(20060101);
代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;
代理人邵亚丽
地址 韩国京畿道
入库时间 2024-02-19 08:33:32
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-03-29
公开
机译: 关键尺寸测量系统和使用相同方法测量关键尺寸的方法
机译: 关键尺寸测量系统和测量关键尺寸的方法
机译: 用于图案的关键尺寸的光学测量设备,包括可调激光系统,以及使用该光学测量设备的用于图案的关键尺寸的测量方法
机译:具有AFM关键尺寸的参考测量系统
机译:贝叶斯探测方法从散射测量测量中确定关键尺寸
机译:关键尺寸测量模式下的AFM方法
机译:使用SEM图像分析对过程控制的关键尺寸和覆盖测量方法的研究
机译:使用骨替代物对兔颅骨关键尺寸缺损进行骨愈合。
机译:预防适度连续运行锻炼条件改善了男性Wistar大鼠非关键尺寸骨缺损的愈合:使用μct的试验研究
机译:从关键尺寸分布测量估算极端紫外光刻中随机缺陷的极低概率
机译:使用耳声发射(OaE)测量系统估计中耳肌反射(mEmR)的三种方法。