首页> 中国专利> 硅纳米线—氧化钨纳米线刷状多级结构及其制备方法和在探测二氧化氮中的应用

硅纳米线—氧化钨纳米线刷状多级结构及其制备方法和在探测二氧化氮中的应用

摘要

本发明公开硅纳米线—氧化钨纳米线刷状多级结构及其制备方法和在探测二氧化氮中的应用,使用金属辅助化学刻蚀法刻蚀单晶硅以形成硅纳米线阵列,再进行稀疏粗糙化处理后进行沉积钨薄膜材料层,升温以生长一维氧化钨纳米线,最后进行铂电极制备。本发明的硅纳米线/氧化钨纳米线复合异质多级结构气敏敏感元件在室温下工作,且对二氧化氮具有很好的响应,在气体传感器与集成电路工艺兼容,延长传感器寿命,节约能耗,以及危险气体检测方面具有很重要的研究价值。

著录项

  • 公开/公告号CN109298026A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-02-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 天津大学;

    申请/专利号CN201710608019.8

  • 发明设计人 秦玉香;王泽峰;刘雕;王克行;

    申请日2017-07-24

  • 分类号

  • 代理机构天津创智天诚知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人王秀奎

  • 地址 300072 天津市南开区卫津路92号

  • 入库时间 2024-02-19 06:59:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N27/12 申请日:20170724

    实质审查的生效

  • 2019-02-01

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号