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硅试样的碳浓度评价方法、硅晶片制造工序的评价方法、硅晶片的制造方法、单晶硅锭的制造方法、单晶硅锭以及硅晶片

摘要

本发明提供一种硅试样的碳浓度评价方法,其包括:在作为评价对象的硅试样的表面的至少一部分形成氧化膜;向所述氧化膜的表面照射粒子束;向照射了所述粒子束的氧化膜的表面照射具有比硅的带隙大的能量的激发光;测定从照射了所述激发光的作为评价对象的硅试样发出的光致发光的强度;以及基于测定出的光致发光的强度,评价作为评价对象的硅试样的碳浓度,所述光致发光是硅的带边发光。

著录项

  • 公开/公告号CN109314068A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-02-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 胜高股份有限公司;

    申请/专利号CN201780037683.X

  • 发明设计人 江里口和隆;佐俣秀一;佐佐木骏;

    申请日2017-06-14

  • 分类号

  • 代理机构北京北新智诚知识产权代理有限公司;

  • 代理人刘秀青

  • 地址 日本东京都港区芝浦一丁目2番1号

  • 入库时间 2024-02-19 06:55:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/66 申请日:20170614

    实质审查的生效

  • 2019-02-05

    公开

    公开

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