机译:化学气相沉积和原子层沉积过程的反应路径分析:二氧化钛薄膜沉积研究
机译:栅介质用CeO_2薄膜的制备和电学表征:化学气相沉积与原子层沉积工艺的比较研究
机译:多尺度等离子体和特征轮廓型等离子体增强化学气相沉积和原子层沉积工艺的钛薄膜制造
机译:化学气相沉积或原子层沉积沉积的非晶薄膜的表面平滑效果
机译:金属有机化学气相沉积和原子层沉积方法,用于从二烷基酰胺前体中生长ha基薄膜,用于高级CMOS栅极堆叠应用
机译:通过原子层沉积和化学气相沉积在高纵横比结构中沉积的薄膜的ToF-SIMS 3D分析
机译:通过原子层沉积(aLD)化学蚀刻和沉积二氧化钛薄膜在纳米钛表面上形成微米和纳米结构
机译:氧化欠电位沉积硫的薄层电化学研究及其在Cds电化学原子层外延沉积中的应用。 2. sTm研究。 (重新公布新的可用性信息)